Die Investition in eine Hochleistungs-Wasseraufbereitungsanlage zahlt sich für AP&S International GmbH aus, denn diese bringt dem Unternehmen nicht nur Wasser- und Kostenersparnis, sondern in erster Linie technologischen Fortschritt, erhebliche Vorteile für die Kunden und dadurch einen wesentlichen Wettbewerbsvorteil für AP&S auf dem internationalen Markt.
Wie das Unternehmen mitteilt, ist die neue Anlage, die eine Stadtwasseraufbereitung durch die Reduktion der Inhaltsstoffe bis in den Ultra-Spurenbereich möglich macht, seit Jahresbeginn in Betrieb. Lieferant der Anlage ist die Firma Haage & Elsässer aus Stuttgart, die seit Jahren im Technologiefeld der ultra-reinen Wasseraufbereitung tätig ist und zu den globalen Technologieführern für derartige Systeme zählt.
Die extrem hohen Anforderungen an die Reinheit nasschemischer Prozessanlagen in der Halbleiter-Industrie waren ausschlaggebend für die Investitionsentscheidung. Bevor die Prozessanlagen in einer Halbleiterfabrik zum Einsatz kommen, müssen diese die notwendigen Reinheitsspezifikationen erfüllen. In der Praxis bedeutet dies, dass vor der Inbetriebnahme langwierige Spülzyklen beim Kunden notwendig sind, die Zeit und Ressourcen verbrauchen. Dem Entwickler- und Prozesstechnikerteam bei AP&S war klar, dass eine Optimierung dieses Prozesses den Kunden erhebliche Vorteile bringen würde. Die Grundidee für das Projekt war somit geboren. 2016 folgten die Investition und der Aufbau der neuen Hochleistungs-Wasseraufbereitungsanlage.
Prozessingenieur Stefan Zürcher fasst die wesentlichen Vorzüge der neuen Wasseraufbereitungstechnologie zusammen: „Weniger Wasserverbrauch und geringere Kosten, bei kalkulierbarem Risiko für die Prozessreinheit, das mit Monitorstationen überwacht wird, sind die Eckpfeiler der neuen Wasseraufbereitung. Neu am Anlagenkonzept ist auch, dass das Wasser intern recycelt werden kann. Die Anlage hat eine Lagerkapazität von sechs bis acht Kubikmeter ultrareines Wasser und eine Produktionskapazität von drei Kubikmeter ultra-reines Wasser pro Stunde, welches im Betrieb zum Freispülen, Säubern und Konditionieren von Anlagen verwendet wird.“
AP&S-Prozessanlagen werden nun vor der Auslieferung mit dem aufbereiteten Reinstwasser gespült und mit optischen Partikelzählern und Proben für die Kationen-Spurenanalysen vermessen und qualifiziert. Dadurch können die Anlagen nach der Installation beim Kunden in einer Halbleiterfabrik schnell in Betrieb genommen werden und erzielen von Anfang an geringste Defektdichten auf den Wafern und den Chips. Diese Optimierung bringt den Kunden maßgebende Zeit-und Kostenersparnis.
„Die neue Wasseraufbereitungsanlage ermöglicht es AP&S, den Kunden Prozessanlagen zu liefern, die dem höchsten Standard der Nano-Technologie gerecht werden“, sagt Robert Preisser, Professor für Nanotechnologie in Stuttgart. Er hat bei AP&S das Projekt initiiert, spezifiziert und die Umsetzung unterstützt.
„Mit dieser Technologieneuerung hat sich AP&S an die Spitze der mittelgroßen Anbieter von Prozessanlagen gesetzt, die die Halbleiter- und Nano- Technologie unterstützen. Damit haben wir unsere Wettbewerbsfähigkeit ausgebaut und als globaler Technologieanbieter in dieser Branche empfohlen.“ freut sich Geschäftsführerin Alexandra Laufer-Müller.
AP&S International GmbH
Die AP&S International GmbH ist ein weltweit agierender Spezialist für die Entwicklung, den Bau und das Refurbishment von Nassprozessanlagen. Angeboten werden Standardprodukte und auf Kunden maßgeschneiderte Lösungen für das Ätzen, Reinigen, Beschichten und Trocknen von Wafern und Substraten, sowie die hierfür erforderlichen Entsorgungssysteme.
Das Produktportfolio reicht von einzelnen Labormodulen bis hin zu vollautomatischen nasschemischen Produktionsanlagen.
